全球最大的半導體晶圓代工廠台積電（TSMC）接連爆發可能動搖國家安全的大規模機密外洩事件。
其一，是曾被視為台積電第二把交椅的前資深副總經理羅唯仁，在跳槽至競爭對手英特爾（Intel）後引發的疑雲。
其二，則是現任工程師被指控與日本大型半導體設備製造商東京威力科創（TEL）共謀，非法竊取最先進的2奈米製程技術。
本文將詳述這兩起事件的來龍去脈與背景，結合最新的偵查進度，深入探討圍繞技術霸權的「晶片戰爭」其激烈實況。
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事件一：前資深副總羅唯仁跳槽英特爾與機密外洩疑雲
晚節不保的傳奇工程師
曾在台積電擔任資深副總經理的羅唯仁，於加州大學柏克萊分校取得固態物理與表面化學博士學位後，曾任職於英特爾，擔任先進技術開發事務部長兼CTM（California Technology Manufacturing）廠長。
2004年轉投台積電後，主管研發與營運部門，並推動「夜鷹計畫」（讓研發部門24小時三班制輪值），對10奈米製程的開發有重大貢獻。他在公司的地位僅次於董事長兼總裁魏哲家（C.C. Wei），是輝達（NVIDIA）執行長黃仁勳訪台時，與台積電高層會晤的固定班底，足見其重要性。
羅唯仁自規定的66歲退休年齡延任長達8年，於2025年7月以75歲高齡退休。
這8年間，他獲得了高達10億新台幣的收入，經濟上無任何後顧之憂。然而，退休後僅僅三個月，他於同年10月再次被老東家英特爾聘用，此舉使其輝煌的職業生涯蒙上陰影。
竊密手法與台積電的應對
據傳，羅唯仁在退休前夕，命令部屬影印台積電的機密資料，並帶走了20箱個人手寫筆記。
市場與媒體報導指出，這些資料包含了2奈米、A16（1.6奈米）、A14（1.4奈米）等最先進晶片的製程資訊。另有一說，羅唯仁因未能如願登上台積電「共同營運長」的職位而心生不滿，便帶著機密投奔英特爾。
此外，羅唯仁在退休前一年轉任「企業策略發展部」資深副總後，仍持續參加未受邀的研發組織機密會議，並要求索取先進半導體製程進度的相關數據。其他與會成員因顧忌其資深地位，未能當面請他離席。
台積電設有「競業禁止條款」，禁止員工在離職後18個月內任職於競爭對手。羅唯仁退休前，法務長方淑華曾提醒他此項規定，當時羅唯仁表示將轉往學術界發展。
然而，在他離職後跳槽英特爾的消息曝光後，台積電以洩漏機密及違反競業禁止義務為由，對羅唯仁提起訴訟。2025年11月25日，台灣檢方以涉嫌違反《國家安全法》為由正式啟動司法程序，並於次日查封了羅唯仁位於新竹和台北的房產及股票等資產。
最新進度（2026年1月）
根據2025年12月底的報導，檢方在搜索羅唯仁住處時，似乎發現了與2奈米、A16、A14等先進製程相關的機密資料。據信羅唯仁本人已前往美國，後續的法律應對備受關注。
對英特爾的影響與台積電的危機感
英特爾的18A製程（相當於台積電的2奈米）目前良率僅在10%左右。若羅唯仁的專業知識能使其良率提升至70%至80%，將對台積電的技術優勢構成巨大威脅。目前，台積電2奈米良率約為80%至90%，三星電子（Samsung）則為50%至60%。倘若英特爾的良率超越三星，台積電的危機感將會加劇。
2025年11月19日，英特爾執行長Pat Gelsinger在聖荷西舉行的半導體產業協會會議上表示：「對羅先生的指控僅是猜測和謠言，毫無根據。我們尊重智慧財產權。」他還說：「羅先生過去曾在英特爾為晶片開發貢獻了18年。我們張開雙臂歡迎他的回歸，並相信我們的團隊秉持著誠信與高標準。」
事件二：現任工程師非法竊取2奈米技術
案情緣起與犯案手法
另一起事件則涉及台積電的現任工程師。《日經亞洲》（Nikkei ASIA）的報導率先揭露，台積電次世代最關鍵的2奈米製程技術遭到內部人員非法竊取。
根據報導，共有9名工程師涉案，其中3人已被捕。他們利用在家遠距工作時，以個人密碼登入公司配發的電腦，反覆進出其職級無權存取的機密檔案庫，並用智慧型手機的相機拍攝機密資料。台積電的AI系統偵測到此「異常接觸」行為，進而揭發了這起事件。
台積電隨即通報相關部門，調查人員在新竹科學園區附近的一家星巴克，當場查獲2名工程師將約1000張機密資料照片交給一名已離職的工程師。
被捕工程師的背景
被捕的3人均為台灣頂尖大學畢業的菁英：
- 陳姓工程師：畢業於國立清華大學材料系。在台積電期間曾負責5奈米、4奈米、3奈米等先進製程，後於2022年12月跳槽至東京威力科創（TEL）。
- 吳姓工程師：畢業於國立清華大學化學系，在台積電任職8年，負責蝕刻與良率提升。引人注目的是，他最近以1億新台幣購入了兩戶豪宅。
- 戈姓工程師：畢業於國立清華大學材料系，並取得交通大學材料研究所碩士學位。在台積電任職6年，負責3奈米、2奈米等先進製程的封裝，是「將製程缺陷降低99.9%，使良率提升10%」的資深首席工程師。
台積電的年薪超過250萬新台幣，加上分紅後年收可達450至500萬，待遇優渥。他們為何甘冒風險犯案，其動機成為檢方調查的重點。
最新進度（2026年1月）
此案最初以2奈米技術外洩為偵辦方向，但後續調查發現，在東京威力科創的雲端儲存空間中，查獲了與14奈米以下製程相關的台積電機密資料，使案情進一步擴大。
2026年1月5日，台灣高等檢察署對陳力銘、吳秉駿、戈一平3人，以及新查出的台積電內部共犯（陳姓工程師）、涉嫌湮滅證據的東京威力科創主管（盧姓主管），及東京威力科創法人本身，提起追加起訴。其中，因犯後態度不佳，內部共犯被求處最重的8年8個月徒刑，陳力銘被求刑7年，湮滅證據的主管被求刑1年，東京威力科創法人則被科以2500萬新台幣罰金。
幕後黑手是誰？
這些非法取得的機密數據，據稱包含了能讓台積電良率高出同業兩倍的關鍵參數，取得這些資料的企業，將能縮短至少2年以上的開發時程，並節省數百億至數千億新台幣的研發成本。
台積電董事長魏哲家雖自信地表示：「就算偷了台積電的技術也做不出來，因為技術非常細緻，不是挖走1個、10個或100個人才就能辦到的。」但外界仍在猜測犯行背後的指使者。
- 三星電子：雖自3奈米起採用GAA架構，但良率僅3至4成，技術獲取動機強烈。
- 英特爾：先前被認為因經營不善已放棄18A開發，竊取技術的可能性低，但羅唯仁的跳槽改變了此一看法。
- Rapidus（日本）：技術來自IBM授權，但缺乏量產技術。被捕者之一曾跳槽至TEL，使兩者產生連結，但因技術體系不同，台積電的資料是否有用仍是未知數。
- 中芯國際（SMIC）與華為（Huawei，中國）：受美國制裁，無法取得EUV曝光機，目前取得台積電先進技術的急迫性較低。
結論：「晶片戰爭」的激烈實況
這一系列事件，凸顯了圍繞半導體技術的國家級霸權爭奪，已從單純的投資競賽，轉變為更直接、更危險的商業間諜戰。
台灣當局為保護國家核心技術，已動用《國家安全法》進行偵辦。此案由素有「辣腕女檢」之稱的劉怡君檢察官主導，她曾在2017至2018年的28奈米機密外洩案中，以高效率偵破案件。未來司法判決的結果，將如何影響全球半導體勢力版圖，值得密切關注。
